mboost-dp1

unknown
- Forside
- ⟨
- Forum
- ⟨
- Nyheder
#1 Så får du da "Damn minestryger kører langsomt, det er jo trods alt en intel cpu!"
Btw kan ikke se linket, får bare siden kan ikke vises, andre der får det problem?
Og Offtopic, når man klikker på "Læs mere" er det så defineret af newz.dk om det skal være i nyt vindue eller på den lokale maskine?
Btw kan ikke se linket, får bare siden kan ikke vises, andre der får det problem?
Og Offtopic, når man klikker på "Læs mere" er det så defineret af newz.dk om det skal være i nyt vindue eller på den lokale maskine?
Damn, en halvering af størrelsesforholdet fra den nuværende 13nm vil give 4 gange mere plads. Go 6.5nm!!!
#8 Øh - nej. Dels er det 65 nm og dels er det gateTYKKELSEN der bliver 65 nm - IKKE overflademålene på kredsløbskomponenterne. Der er en naturlig grænse (jeg tror faktisk 70nm er verdensrekord og det er under laboratorieforhold og med røntgenlitografi) for de mindste liniebredder man kan opnå med "lys" lithografi, da lysbølgens størrelse er endelig.
#9 Ja selvf. 65nm, en lille tastefejl dér. Men du har misforstået, det er ikke gate LÆNGDEN der bliver 65nm - dén bliver nemlig 35nm som du kan læse mange stedet, f.eks Anandtech
Gate længden på min *gamle* 130nm CPU er således 70nm. Men du har ret i at der er en grænse for hvor små bølgelængder vi kan fremstille til brug i litografi - dertil skrives i ovenstående link ligeledes om EUV og "masking tricks".
#11 Intel's seneste roadmap fra IDF beskriver hvorledes de regner med at frigive CPU'er på en 32nm (Gatelængde på 18nm) process i 2009.
Gate længden på min *gamle* 130nm CPU er således 70nm. Men du har ret i at der er en grænse for hvor små bølgelængder vi kan fremstille til brug i litografi - dertil skrives i ovenstående link ligeledes om EUV og "masking tricks".
#11 Intel's seneste roadmap fra IDF beskriver hvorledes de regner med at frigive CPU'er på en 32nm (Gatelængde på 18nm) process i 2009.
#12 Urgh - my bad! Jeg er da godt nok gået noget bag om dansen dér! Syntes nu ikke det var så længe siden at jeg havde fag om den slags, så det er GODT nok gået stærkt. Antifasemasker og EUV lithografi troede jeg stadig var på prototypestadiet (det er det så måske også til 2005....). Det er iøvrigt noget mere kompliceret (læs dyrere) end alm UV lithografi, men det kan jo nok betale sig.
Opret dig som bruger i dag
Det er gratis, og du binder dig ikke til noget.
Når du er oprettet som bruger, får du adgang til en lang række af sidens andre muligheder, såsom at udforme siden efter eget ønske og deltage i diskussionerne.